他总结经验，积极寻找失败的原因，不断修正研究方案。功夫不负有心人，通过集智攻关，他带领团队终于攻克了反应源气体与载气分压配比、CVD反应室炉温均匀性、转移介质和载体匹配性、目标物与石墨烯薄膜兼容性等CVD技术制备石墨烯的四大难题，在国内首次成功利用CVD设备制备出了完整、均匀的石墨烯膜。
用CVD制备出的石墨烯膜，透光率可达90%以上，电阻400~600欧姆之间。通过这次突破，何利民带领团队正式推开了石墨烯膜制备的神奇之门。
生产石墨烯薄膜
有人问何利民：“你在高温防护涂层方面干得好好的，为什么还要把精力投入到石墨烯这个完全陌生的领域?不怕砸了自己的招牌吗?”他只是笑笑说：“总要有人来做。”一句朴素的话语，却体现了何利民创新的勇气和执着。
